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Metall-Sputter-Target ist ein gesintertes Material

Metallsputtertarget ist ein gesintertes Material, bei dem das Sputtertargetmaterial aus mindestens 0,5 bis 50 Atom-% mindestens eines Metallelements (M) ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Ti, Zr, V, Nb und Cr und dem Rest besteht Mo und einer unvermeidlichen Verunreinigungszusammensetzung, Metallsputtertarget und Beobachten der Mikrostruktur des Materials aus einem Querschnitt senkrecht zur Sputteroberfläche, in der Oxidpartikel in der Nähe der Inselgrenzen des Metallelements (M) vorhanden sind. Die maximale Fläche von Die Insel ist nicht mehr als 1,0mm

Metallische Zerstäubung Ziel Anforderungen sind höher als die der traditionellen Materialien Industrie. Allgemeine Anforderungen wie Größe, Ebenheit, Reinheit, Metall-Sputter-Target-Verunreinigungsgehalt, Dichte, N / O / C / S, Korngröße und Defektkontrolle; Höhere Anforderungen oder besondere Anforderungen sind: Oberflächenrauhigkeit, Beständigkeit, Korngrößengleichförmigkeit, Zusammensetzung und Organisationsgleichförmigkeit, Fremdkörper (Oxid) Inhalt und Größe, Metall-Sputter-Target-Permeabilität, Ultra-High-Density und Ultrafein-Korn und so weiter. Magnetron-Sputtern ist eine neue Art von physikalischer Dampfbeschichtung, die Elektronenkanonensysteme verwendet, um elektronisch zu emittieren und auf das zu plattierende Material zu konzentrieren, so dass die gesputterten Atome dem Impulsumwandlungsprinzip mit einer höheren kinetischen Energie aus dem Material Fliege zum Substrat abgeschiedenen Film folgen. Diese Art von plattiertem Material heißt Sputtertarget. Sputtertargets sind Metalle, Legierungen, Keramiken, Boride und dergleichen.