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Wie zu überwinden, die niedrige Auslastung Rate von Magnetron Sputtering Target

Wie man die geringe Auslastung des Magnetron-Sputter-Targets überwinden kann

Rotation Ziel ist weit verbreitet in Solarzellen, architektonischen Glas, Automobil-Glas, Halbleiter, Flachbild-TVs und anderen Branchen verwendet.

Das zylindrische rotierende Target hat eine hohe Magnetfeldstärke, eine hohe Zerstäubungseffizienz des Targets, eine hohe Abscheidungsrate des Films, ein Sputtertarget und eine gleichförmige Filmschicht können auf einem großflächigen planaren Substrat auf beiden Seiten des Targets abgeschieden werden. Zur gleichen Zeit durch den Rotationsmechanismus zur Verbesserung der Auslastung des Ziels. Die Zielkühlung ist ausreichend, die Targetoberfläche kann einem höheren Sputtering standhalten. Die Kombination mit der Zwischenfrequenz-Dual-Target-Magnetron-Sputtertechnologie kann die Produktionseffizienz bei gleichzeitiger Reduzierung der Produktionskosten erheblich verbessern.

Magnetron-Sputtern hat viele Vorteile, aber auch die Existenz von niedrigen Abscheidungsrate und Zieloberflächenätzung unebenen, geringen Ausnutzung von Zielfehlern. Wie die flache Zielzielausnutzung beträgt im allgemeinen nur etwa 20% bis 30%, das Sputtertarget, was zu einer Sputterwirkung führt, ist relativ gering. Für einige Edelmetalle wie Gold, Silber, Platin und einige hochreine Legierungsziele wie die Herstellung von ITO-Folien, elektromagnetischen Folien, supraleitenden Folien, dielektrischen Folien und anderen Schichten von Edelmetall-Targets, wie man das Magnetron-Sputtern überwinden kann Die Zielausnutzung ist gering, die Dünnfilmabscheidung ist nicht einheitlich und andere Mängel sind sehr wichtig.

Die rechteckige planare Magnetron-Sputtertarget-Ziel-Ätz-Heterogenität wird hauptsächlich in zwei Aspekten reflektiert, einerseits ist die Breite der Zielbreite des unebenen Ätzens andererseits das Sputter-Target auf die traditionelle Gestaltung der rechteckigen, ebenen Sputtertarget-Sputterrille Spur ist geschlossen und das anomale Ätzphänomen neigt an der diagonalen Position des Zielendes an und das Ätzen an der Verbindung zwischen dem Zielende und dem Geraden ist abnormal und das Ätzen im mittleren Bereich ist flach und das Ätzen Schwere Teile Sind immer diagonal, so dass das Phänomen auch als Endwirkung oder Diagonaleffekt bekannt ist. Der Endätzeffekt des Targets reduziert die Gleichmäßigkeit der Ätzkanaltiefe erheblich und das zylindrische Drehtarget kann diese Probleme sehr gut lösen und hat somit eine höhere Auslastung.