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Die Spezifikationen für Sputter-Targets und Kathoden-Materialien

Die Spezifikationen für Sputter-Targets und Kathoden-Materialien

 

Drehbare Sputtertargets


Niedriger Verunreinigungsgehalt, hohe Reinheit

Reinheit ist einer der wichtigsten Leistungsindex von Sputtertargets und Kathodenmaterialien, er hat tiefgreifende Auswirkungen auf die Homogenität des Dünnfilms. Nun ist die Forderung nach Reinheit von Sputtertargets und Kathodenmaterialien immer höher. Beispielsweise entwickelt sich bei der rasanten Entwicklung der Mikroelektronik-Industrie die Silizium-Wafer-Größe von 6 ", 8" bis 12 "und die Verdrahtungsbreite von 0,5 um auf 0,25 um, 0,18 um und 0,13 um, die Reinheit 99,995% des Sputterns Zielmaterialien können die technologischen Anforderungen von 0,35 um erfüllen, aber jetzt benötigen 0,18 um und 0,13um Linien für die Reinheit von 99,999% oder höher Sputtertargets und Kathodenmaterialien.

 

Hohe Dichte

Die Vorteile von hochdichten Sputtertargets und Kathodenmaterialien sind:

- hervorragende elektrische Leitfähigkeit

- hervorragende Wärmeleitfähigkeit

- hohe Festigkeit

Im Beschichtungsverfahren mit hochdichten Sputtertargets und Kathodenmaterialien,

Sputterleistung ist niedriger, die Abscheidungsrate ist schneller, die Qualität des Dünnfilms ist besser und nicht leicht zu knacken. Die Lebensdauer von Sputtertargets und Kathodenmaterialien wird länger sein, wir können einen Dünnfilm mit einem niedrigeren elektrischen Widerstand und einer höheren Lichtdurchlässigkeit erhalten.

 

Mikrostruktur-von-CP-Titan-Längsrichtung.jpg

Mikrostruktur von Titanium Sputtering Targets , Klasse 2


Feinkorngröße und homogene Mikrostruktur

Je feiner die Korngröße ist, desto mehr Dünnschicht verteilt sich, die Sputterrate wird schneller. Und die homogene Sputtertargets und Kathodenmaterialien sind die wichtige Garantie für die gleichbleibende Dünnfilmqualität.

 

Planare Sputtertargets


Haohai-Metall entwickelt eine breite Palette von niedrigem Verunreinigungsgehalt, hoher Reinheit, hoher Dichte, feinkörniger Größe und homogenen Mikrostruktur-Sputtertargets und Kathoden mit Materialien aus Titan , Zirkonium , Chrom , Niob , Tantal , Molybdän , Hafnium , Aluminium , Silizium , AlTi , AlCr , NiCr und SiAl etc., um Ihren Beschichtungsprozess zu verbessern und dichtere, haltbarere und bessere Funktionsschichten zu erhalten.

 

Bitte zögern Sie nicht, uns über sale@pvdtarget.com zu kontaktieren Für mehr Informationen und Preis.